光學平臺廣泛應用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領域，以及其他機械行業的精密試驗儀器、設備振動隔離的關鍵裝置中，其動態力學特性的好壞直接影響試驗結果的性和可靠性。儀器設備的微振動直接影響精密儀器設備的測量精度。隨著精密隔振要求的提升，需要不斷提高光學平臺的振動隔離技術。

隔振系統設計需要考慮的環境微振動干擾是復雜的，包括：大型建筑物本身的擺動、地面或樓層間傳來的振動、電動儀器和設備的振動、各類機械振動、聲音引起的振動、外界街道交通引起的振動，甚至包括人員走動所引起的振動等。

光學平臺的選擇對于提升實驗精度，起著至關重要的作用。總體上說，光學平臺的隔振，通過三個方面來實現：

• 隔振支架：通常來說，氣浮式隔振支架性能優于阻尼式隔振支架，部分性能的隔振支架可以將外界振動（常見10～200Hz）減少一至兩個數量級

• 臺面物理性能：要求臺面有一定的剛性而且較輕（硬重比），這樣的臺面可以有效減少共振時的振幅，這一點在后面闡述

• 臺面內部結構：臺面的內部結構，除了負責減輕支架未能消除的外界振動外對于降低或消除因臺面上的沖擊和相對運動引起的振動，起到至關重要的作用

的光學平臺不僅需要高精度的機器設備來加工，更需要有高科技精度的檢測手段與檢測儀器來，也只有的光學平臺才能高精度的科學實驗、科學研究的正常進行。